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iPhone 20周年纪念版,正面不会是挖孔屏

近期,显示行业分析师Ross Young爆料,表示iPhone 18 Pro不会采用屏下Face ID技术,与之前Tformation的报道有所矛盾。

iPhone 20周年纪念版,正面不会是挖孔屏

早期 The Information 爆料认为是单挖孔屏形态,将前置镜头放于左上角。

iPhone 20周年纪念版,正面不会是挖孔屏

现在 Ross Young 表示,Apple 会在 iPhone 18 Pro 机型上将部分 Face ID 组件移至屏幕下方,这可以将动态岛的面积进行缩小,但不会缩小到挖孔屏的程度。

对于备受消费者关注的2027年推出的20周年纪念版iPhone,Ross Young表示会延续18 Pro的缩水动态岛设计。

按照 Ross Young 的猜测,Apple 从 2028年开始会把所有 Face ID 组件移至屏幕下方,屏幕仅保留前置镜头挖孔。 对于真全面屏iPhone,Ross Young认为苹果至少要到 2030年才可实现技术突破,这要比此前预期晚整整三年时间。

值得一提的是,Ross Young 对对于自己的爆料充满信心。 如果信息属实,意味着距离真全面屏 iPhone 发布还需 5年时间。

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